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VEECO和ALLOS展示行业领先的200MM硅基氮化镓性能,推动micro-LED的应用

时间:2018-02-06 来源:Allos

Veeco 公司 (Nasdaq: VECO)今日宣布和ALLOS Semiconductors (ALLOS)达成了一项战略举措,展示了200mm硅基氮化镓晶圆用于蓝/绿光microLED的生产。维易科和ALLOS合作将其专有外延技术转移到Propel® 单晶圆MOCVD系统,从而在现有的硅生产线上实现生产micro-LED。

“使用Propel反应腔,我们就拥有了一项MOCVD 技术,这项技术能够实现高产量的GaN外延,满足在200毫米硅生产线上生产micro-LED器件的所有要求,” ALLOS Semiconductors的首席执行官 Burkhard Slischka这样说。“不到一个月时间我们就已经在Propel上对我们的技术进行了验证,并且获得了无裂纹、无回熔的晶圆,翘曲度低于30微米,晶体质量高,厚度均匀性优异,波长均匀性小于1纳米。同Veeco携手,ALLOS期待着将该技术在micro-LED产业中更为推广。”

Micro-LED显示技术由<30x30平方微米的红、绿和蓝(RGB)无机LED组成,这些LED被转化为显示屏背板,以形成亚像素。与有机LED(OLED)和液晶显示(LCD)相比,这些高效的LED直接发射功耗更低,却可以为移动显示器、电视和可穿戴式计算机提供优异的亮度和对比度。Micro-LED的制造要求优质、均匀的外延晶圆,以满足显示屏的产量和成本控制的要求。

“和竞争对手的MOCVD平台相比, Veeco的TurboDisc®技术提供的制程窗口更大,因此Propel能提一流的均匀性同时还能获得优良的膜品质,”维易科高级副总裁兼MOCVD运营总经理Peo Hansson博士这样说。“将Veeco领先的MOCVD专业技术和ALLOS的硅基氮化镓外延晶片技术相结合,使我们客户能够开发出低成本的micro-LED,以便于在新的市场中开拓新的应用。”

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